工艺目标
让打磨头沿预设轨迹稳定接触工件，并通过力控减少过磨、欠磨和人工手法差异。
Product
多轴打磨装备
面向需要持续接触力、轨迹跟随和多轴协同的打磨、抛光等工艺，按项目集成力控和运动控制模块。
系统组成
可由多轴运动平台、力控模块、打磨执行机构、视觉定位和工艺监控模块组成。
导入条件
需结合工件材料、目标表面状态、接触力范围、耗材寿命和粉尘防护进行项目评估。
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面向需要持续接触力、轨迹跟随和多轴协同的打磨、抛光等工艺，按项目集成力控和运动控制模块。
让打磨头沿预设轨迹稳定接触工件，并通过力控减少过磨、欠磨和人工手法差异。
可由多轴运动平台、力控模块、打磨执行机构、视觉定位和工艺监控模块组成。
需结合工件材料、目标表面状态、接触力范围、耗材寿命和粉尘防护进行项目评估。